高低溫循環(huán)設備主要用于玻璃反應器、金屬反應器和生物反應器的溫度控制和恒溫控制。該系統(tǒng)采用全封閉循環(huán)，通過冷卻和加熱傳熱介質(zhì)，達到控溫的目的。

　　

　　設備有冷卻箱和冷卻塔兩種。沿著冷卻塔，風機常常用來促進蒸發(fā)，冷卻水常常被吹走。因此敞開式冷卻水循環(huán)系統(tǒng)務必供貨談水。因為揮發(fā)、冷卻循環(huán)水濃縮，濃縮全過程推動鹽份污垢(見沉積物操縱)。補充水具備稀釋液功效，其總流量自始至終由循環(huán)水濃度值限定值決策。

　　

　　那么如何為高低溫循環(huán)設備添加液體介質(zhì)呢？

　　

　　1、在使用加熱制冷循環(huán)中，排氣是相對堿性的，液體填充和排空同時進行。裝置中的液體位于裝置的頂部，閉合順時針，逆時針，排氣閥位于器件的一側(cè)，可以將輔助工具用入長孔，然后順時針和逆時針關閉。

　　

　　2、液體添加時，請注意必要的保護措施，戴橡膠手套，護目鏡和麥形塞等，以確保傳熱介質(zhì)符合系統(tǒng)要求（溫度范圍，粘度，腐蝕性和毒性）。如果存在少量沉淀物，請等待其穩(wěn)定，不要在系統(tǒng)中添加沉淀物。

　　

　　澆注時，請注意溢出，始終注意裝置側(cè)面的觀察鏡，以防止電氣柜中照明的照明溢出并導致污染。在添加液體之前，檢查相關管道是否已*打開，并且關閉器件漏極關閉。

　　

　　3、添加液體介質(zhì)時，逆時針打開潤滑脂蓋，插入漏斗注入傳熱介質(zhì)，將液體添加到水平級別，并在排空時逆時針打開排氣閥，單擊空頭并填充設備觸摸屏上的按鈕控制頁面。